CRF plasma 等離子清洗機

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寬幅等離子表面處理機

CRF-APS- 500W

自動式等離子處理系統大氣等離子清洗機應用于FPC&PCB表面處理,復合型材料,玻璃,ITO等行業領域的表面處理;

首創超低溫處理過程,處理溫度可≤35°C以下;

專利設計的內置式冷卻系統,提高和保證設備的使用壽命和性能;

等離子設備可以使用On-Line安裝方式,電子和離子的能量可達10eV以上,材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

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設備詳細數據

      等離子清洗機,又名等離子處理機,等離子表面處理設備。其基本原理是:在清理過程中,由工作中氣體在磁場的作用下所激起的等離子體與物件表層產生物理學和化學變化。物理反應原理是活性顆粒轟擊待清理表層,使污染物擺脫表層,污染物被排出;化學變化原理是各種各樣活性顆粒與污染物反應形成揮發物化學物質抽出,進而做到清理目的。一般用以氫、氮、氧、氬等工作氣體。

深圳誠峰智造等離子清洗機

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